成都醫用手術室淨化設備(bèi)溫度要怎麽控製
更新時間::2017-08-05 15:34:34
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層(céng)流手術室具體工藝對溫(wēn)度的要求以後還要列舉,但作為總的原則看,由於加工精度越來越精細(xì),所以對溫度波動範圍的要求越來(lái)越小。例如在大規模(mó)集成電路生(shēng)產的光刻曝光工藝中,作為掩膜(mó)板材料的玻璃(lí)與矽片的熱膨脹係數(shù)的差要(yào)求越來越小(xiǎo)。直徑100 um的矽片,溫度(dù)上升1度,就引起了0.24um線性膨脹,所以必須有(yǒu)±0.1度(dù)的恒溫,同時要求濕度值一般(bān)較低,因(yīn)為人出(chū)汗以後,對產品將有(yǒu)汙(wū)染,特別是怕鈉的半導體車間,這種車間不宜超過25度

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